Mono- and Multi-crystalline wafer and brick lifetime measurement device
應用范圍：用于常規質(zhì)量控制、精密材料研發(fā)的單晶和多晶片及晶錠的壽命測量
根據SEMI標準PV9-1110的非接觸式和無(wú)損成像(μPCD / MDP(QSS))、光電導性、電阻率和p/n檢查。
晶圓切割，爐內監控，材料優(yōu)化等。
日常壽命測量，質(zhì)量控制和檢驗
◆產(chǎn)量：>240塊/天或>720片/天
◆測量速度：對于156x156x400mm標準晶錠，<4分鐘
◆生產(chǎn)改善：1mm切割標準為156x156x400mm標準晶錠
◆質(zhì)量控制：用于過(guò)程和材料的質(zhì)量監控，如單晶硅或多晶硅
◆污染測定：起源于爐和設備的金屬(Fe)
◆可靠性：模塊化和堅固耐用的工業(yè)儀器，更高的可靠性和運行時(shí)間> 99%
◆可重復性:> 99.5%
◆電阻率：不需要經(jīng)常校準
精密材料研發(fā)
鐵濃度測定
陷阱濃度測定
硼氧測定
依賴(lài)于注入的測量等
特性
*無(wú)觸點(diǎn)無(wú)破壞的半導體特性
特殊的“表面之下”壽命測量技術(shù)
不可見(jiàn)缺陷的 靈敏度的可視化
自動(dòng)切割標準定義
空間分辨p/n電導型變換檢測
聯(lián)系QQ：27228489
聯(lián)系郵箱：wei.zhu@shuyunsh.com
傳真：86-021-34685181
聯(lián)系地址：上海市松江區千帆路288弄G60科創(chuàng )云廊3號樓602室
掃一掃 微信咨詢(xún)
©2024 束蘊儀器（上海）有限公司版權所有 備案號：滬ICP備17028678號-2 技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 網(wǎng)站地圖 總訪(fǎng)問(wèn)量：105922
電話(huà)
微信掃一掃
